距今 68 年太空时代

1959年

MOS 场效应晶体管制成

贝尔实验室的Atalla与Kahng在1959年制成可工作的金属—氧化物—半导体场效应晶体管，并于1960年公开演示。MOS工艺后来成为高密度芯片的基础。